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NEO发布新测量技术-激光测量氢气(H2)

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发表于 2021-11-22 11:54:16 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 red 于 2024-1-19 10:04 编辑

     NEO(恩伊欧公司)骄傲的宣布:我们已成功发布了应用于氢气测量的全新分析仪:应用我们专有的、久经考验且值得信赖的基于可调谐二极管激光吸收光谱原理(TDLSA)的 LaserGasTM 技术,我们发布了世界上第一台原位测量氢气的激光气体分析仪LaserGas II SP。 同时,我们也发布了采用多光路腔体进行在线监测的抽取式激光氢气分析仪-LaserGas II MP.
     当前,所有工业应用的氢气探测器都是点式的, 至今还没有可用的光学原位或开路式氢气探测器。 这是因为氢分子在半导体激光器工作的红外区域被公认为是没有吸收谱线的。然而, 所谓“无吸收谱线”其实并不准确, 因为实际上存在着一些十分微小的能量吸收。在腔增强技术的帮助下,这种能量吸收已经在抽取式激光分析仪中得到了利用:通过在反射镜之间发生多次反射形成极长的有效光程长度,可以获得一定强度的氢分子吸收水平。
    NEO Monitors 选择了相反的方式:我们对分析仪进行了重新设计,以达到前所未有的灵敏度到十分微小的吸收水平。我们采用相对较短的光路长度(可达 1米)所实现的检测灵敏度, 对于多数应用来说都是足够的.

      LG II SP H2.jpg

LaserGas II SP
     我们的全新产品 LaserGasTM II SP H2 分析仪, 在过程控制领域开拓了新的机遇: 氢气的非接触式光学吸收测量。 这对于必须在有毒及腐蚀性气流中监测氢气的工业应用中尤其重要。 LaserGasTM II SP H2 可以选择直接原位对穿安装在工艺管道上,也可以采用“by-pass”旁路安装,或者利用简单的抽取方案安装在气体测量池两端.

氢气泄露监测
      氢气是高度易燃、 易爆气体, 爆炸下限 4%。 因此氢气泄漏监测对于氢气系统的安全部署至关重要。我们的 LaserGasTM II SP H2是在工业生产设施或是直接在工艺气流中对氢气泄露进行快速、 可靠监测的理想选择。
氢气泄漏.jpg

    图中显示了湿氯气中 H2的实时测量值。 LaserGasTM ll SP H2 可以清晰的监测到几个短暂持续的氢气峰值,但气相色谱仪却无法实时测量实现。
过程控制和安全
    氢气是许多工业过程中的重要原料。 在石油和天然气工业、化工工业、钢铁工业等领域都有应用:
  • 氢气回收
  • 炼油厂
  • 天然气加工
  • 尾气
  • 合成气
  • 氯气
  • 合成氨
  • 高炉煤气
  • 燃料气

LaserGasTM ll SP H2产品特性和优势:
  • 非接触式-原位-实时监测
  • 响应时间快(小于 2 秒)
  • 广泛的压力和温度适用范围(0.5~4 Bar A, -50~+150°)
  • 无来自其他气体的交叉干扰,如 CO, CO2, H2S, CH4,C2H6, H2O 等
  • 适用于零气体应用
  • 适用于复杂、不同的背景气体
  • 无零点漂移
  • 出厂校准,无需现场标定
  • 持续内部自检
  • 可选集成跨距检查功能
  • 内置氢气跨距检查胶囊
  • 价格合理,维护费用低

针对于高灵敏度和精度要求的氢气监测
    对于需要更高灵敏度和精度的氢气测量的应用,我们可提供全新的 LaserGasTM II MP H2 分析仪。该构型配置了赫里奥特多光路(MP) 腔。 由于与腔增强配置中使用的反射镜相比,对反射镜的要求并不那么严格,因此 MP 腔体通常不易于受污染问题的影响,同时更加坚固且价格更低。

LG II MP.jpeg

LaserGasTM II MP
    LaserGasTM II MP H2分析仪的安装和操作非常简单:开机,连接气样管线,分析仪随即开始报告氢气浓度。
    可应用范围十分广泛:泄露监测, 过程控制, 以及需要持续氢气监测的多种应用。



LG II MP线性测试.jpg


LaserGas II MP
LASERGASTM II MP H2产品特性和优势
  • 灵敏度高 (< 0.1%)
  • 响应时间快 (<20 秒)
  • 无来自其他气体的交叉干扰,如 CO, CO2, H2S, CH4,C2H6, H2O 等
  • 适用于零气体应用
  • 适用于复杂、不同的背景气体
  • 无零点漂移
  • 出厂校准,无需现场标定
  • 持续内部自检
  • 可选集成跨距检查功能
  • 价格合理,维护费用低
检测限 最小检测范围 最大检测范围 响应时间
LaserGasTM ll SP

0.1% 0-5% 0-100% <2秒
LaserGasTM II MP 0.02% 0-1% 0-100% <20秒



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